技術(shù)參數(shù)

1.電子光學(xué)系統(tǒng)

（1）高電壓二次電子分辨率：0.5nm @15kV。

（2）低電壓二次電子分辨率：0.7nm @1kV。

（3）超低電壓二次電子分辨率：0.8nm @500V；1.2nm @200V。

（4）大束流二次電子分辨率：1.9nm@15kV（工作距離10mm，束流6.5nA下）。

（5）大工作距離分辨率：工作距離WD=10mm時(shí)，1kV下分辨率＝1.0nm。

（6）電子束流范圍：1.0pA~50nA

（7）光闌：自加熱式光闌，確保清潔和無(wú)接觸式光闌更換。

（8）復(fù)合式透鏡，至少具備靜電式透鏡和浸沒(méi)式透鏡兩種模式，可切換不同模式，可測(cè)試磁性樣品

（9）采用肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子槍。

2.樣品室和樣品臺(tái)

（1）樣品室：內(nèi)寬340mm，分析工作距離10mm，端口14個(gè)。

（2）樣品臺(tái)：五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，X移動(dòng)范圍120mm，Y移動(dòng)范圍120mm，Z移動(dòng)范圍80mm，T傾斜角度-15°～+90°，360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)。

（3）配備電子束減速模式：樣品臺(tái)偏壓范圍-5000V至+600V。

（4）配備極靴清理模塊,用于清洗極靴內(nèi)部的灰塵顆粒等污染物。

3.探測(cè)器和相機(jī)

（1）樣品室二次電子探測(cè)器1個(gè)。

（2）透鏡內(nèi)二次電子探測(cè)器1個(gè)。

（3）透鏡內(nèi)高敏感背散射電子探測(cè)器1個(gè)，可在50V電壓下采集背散射電子圖像，適用于各類不導(dǎo)電和導(dǎo)電樣品背散射電子圖像觀察。

（4）鏡筒內(nèi)高分辨二次電子探測(cè)器1個(gè)，可探測(cè)樣品電位襯度。

（5）電子束束流計(jì)1個(gè)；

（6）紅外CCD相機(jī)1個(gè)；

（7）宏觀導(dǎo)航相機(jī)（安裝在樣品倉(cāng)內(nèi)）1個(gè)，視野160*105mm，3072*2048像素，至少具備自動(dòng)圖像采集、數(shù)字變焦、圖像注釋、圖像保存功能。

（8）獨(dú)立探測(cè)器和相機(jī)的數(shù)量8個(gè)。

4.數(shù)字圖像記錄系統(tǒng)

（1）圖像存儲(chǔ)分辨率：65k ×65k像素（非疊加下）。

（2）一鍵實(shí)現(xiàn)光路自動(dòng)合軸、自動(dòng)消像散及自動(dòng)聚焦。

（3）四活動(dòng)窗口顯示，可同時(shí)顯示4幅不同探測(cè)器圖像。

5.應(yīng)用軟件

（1）配置自動(dòng)圖像拍照和拼接軟件，可實(shí)現(xiàn)不小于7×24小時(shí)無(wú)人值守自動(dòng)拍照和圖像拼接，可實(shí)時(shí)對(duì)已選定視場(chǎng)進(jìn)行回溯。

（2）電鏡操作應(yīng)具備取消重做功能，可返回任意一步操作。

（3）應(yīng)具有樣品臺(tái)圖像導(dǎo)航功能，雙擊鼠標(biāo)移動(dòng)樣品功能，鼠標(biāo)拖曳式放大及對(duì)中功能。

（4）應(yīng)具有基礎(chǔ)操作應(yīng)用的向?qū)?，使用超鏈接操作電鏡，實(shí)現(xiàn)新手快速入門。

6.電制冷能譜儀

（1）探測(cè)器：硅漂移（SDD）電制冷探測(cè)器，100平方毫米有效面積。

（2）能量分辨率：在100,000CPS條件下Mn Ka保證優(yōu)于129eV。

（3）自動(dòng)譜峰識(shí)別和用戶輔助手動(dòng)譜峰識(shí)別，動(dòng)態(tài)無(wú)標(biāo)準(zhǔn)定量。

（4）自動(dòng)馬達(dá)臺(tái)控制能譜儀的伸縮，確保能譜儀能自動(dòng)到達(dá)理想探測(cè)位置。

7.附件

（1）離子濺射儀：可對(duì)樣品進(jìn)行鍍金，適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡觀察；

（2）碳導(dǎo)電膠5卷，銀膠1管，標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)100個(gè)。

（3）UPS電源，10KVA，續(xù)航1小時(shí)。

（4）等離子清洗機(jī)1套。

（5）超聲波清洗機(jī)1套。